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第四百五十六章:竞争与进步

作者:有人想打我返回目录加入书签推荐本书
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    “我们之前北斗虽然曾经放下过一段时间,但是基础还是在的,现在北斗项目的攻坚问题上,有两大难题,分别是芯片和原子钟。如果这两个问题解决不了的话,北斗系统很难架起来!”

    谢军开口发表了自己的意见。

    “而且之所以退出伽利略计划除了欧洲方面没有诚意的原因以外,还有重要的一点那就是欧洲的伽利略系统无论是从设计还是系统内部都是朝着美国靠拢的,甚至可以说整个计划中百分之八十以上的核心都是来自于美国的。换句话说就是伽利略系统对于美国的依赖性太高,这与我们的初衷不符。

    我们最开始以为伽利略作为欧盟想要对抗美国gps的项目,肯定会有很多自研技术,没想到除了这个项目是欧盟提出的,整个技术差不多都是美国的。

    我们的情况和欧洲不一样,我们和美国的关系远比欧洲各国和美国的关系要复杂,在一定程度上他们可以倒向美国,但是我们不行。而且可以预见就算伽利略计划真的可以实现也不过是另外一个gps的复刻品罢了。所以说我们现在必须要依靠我们自己,研发出我们自己的核心技术!

    原子钟的话我们还可以去克服,但是芯片这块国内暂时还没有满足我们需要的公司。”

    “芯片的事情不用担心,你说是吧,小苏。”

    就在苏炎走神的时候,领导突然点到了苏炎的名。

    “啊?”

    苏炎有些难以置信的开口,显然是没想到领导竟然把这么重要的任务交给他。

    “我们的意思是想请神秀科技配合北斗系统来量身设计自主芯片。”

    听到领导的话,苏炎也是傻眼了。在他看来这种事情不是应该是国家下属的各个科研部门互相配合完成的嘛。

    苏炎忍不住开口问道,“领导的意思是让神秀科技帮忙设计一款北斗的芯片?”

    “确切的说是配合,到时候谢所长在这方面会详细和你说的。不知道苏总的想法是?”

    解释完后领导也是看着苏炎想要听听苏炎的回答。

    “没问题,我们一定全力配合!”

    苏炎认真的说道,这种能够和国家合作项目的机会不多,当然要牢牢把握住了。

    在会议上各方先是简单确定了一下各自负责的事情,至于详细的内容则是需要好好的规划,肯定不是一场会议就能谈论出来的。

    ......

    随着英特尔的行动,euv光刻机研究也是开始慢慢的发酵,甚至在一定程度上给了尼康相当大的压力,毕竟尼康前脚和华夏那边搞出浸没式光刻机技术结果转眼间美国又要搞下一代了,这是想干嘛?想把它尼康往死路上逼吗?

    这真不是尼康不淡定,毕竟再怎么说也是曾经在光刻机市场抖一脚整个市场都要颤三颤的大佬,但是属实是这次他们知道美国方面参与的大佬机构属实有点牛逼。

    所以尼康也是连忙联系了华夏的神秀科技想要问问这次怎么办,毕竟现在双方算是在同一个战壕里了,如果让他们早一步搞出光刻机的话,那么大家全都凉凉,至少在光刻机这块任人拿捏,更不用说除了光刻机以外的其他方面了。

    除了尼康那边不断的催促以外,林本坚等人就下一代光刻机的发展也是给苏炎传来了很多坏消息,因为技术,材料等方面的问题,现在技术研究几乎已经进入到了瓶颈!

    而在阿斯麦那边则是过上个一段时间就有些消息传出来,不是在光源上有了进展就是在材料上有了突破。

    其实对于阿斯麦放出的各种烟雾弹苏炎并不是太担心,毕竟现在关于下一代光刻机在光源问题上的方向分别是157nmf2激光,电子束投射,离子投射以及euv和x光,因为euv属于软x光,所以和x光的研究算在一个领域。

    现在全球研究euv的企业和机构几乎超过200家,但研究157nmf2激光的企业和机构超过300家...

    而且绝大部分企业和机构都是多个方向一起研发,尤其是ibm,四个方向一起研发。

    当时搞157nmf2激光搞得最好的就是svg跟尼康,而当时搞euv搞的最好,也是投入最大的企业,正是英特尔。这也是为什么最近英特尔跳出来高喊要靠euv打造下一代光刻机。

    可以说现在英特尔等为首的就是第一梯队,而第二梯队就是以华夏的神秀科技和日本的尼康,佳能为首的联盟,至于说其他的完全不足为惧。

    神秀科技在华夏也是找上了包括国内知名理科院校以及像是长光所等机构充当盟友,增强力量。远在日本的尼康和佳能也没有闲着,先是找到了包括日本电气股份,三菱,东芝等一众企业随后同样是和日本本土的研究机构以及政府寻求支持。

    而就在华夏和日本两国动起来的时候,阿斯麦那边也是在内部开始了关于现在研究进度的讨论,在内部的讨论中根据众人的分析,目前想要攻克euv光刻机最大的难题,就是光源问题,只要解决了光源问题,其他的问题完全可以靠着科技底蕴硬怼下来。

    经过一段时间的研究,它们也是发现在光源这块确实很难,euv在穿透物体的时候散射吸收是个巨大的问题,这就需要光刻机需要非常强大的光源,再加上euv连空气都能吸收,所以机器内部还得做成真空的,再加上内部各种精密的零部件这对于工艺来说同样是一个巨大的考验。

    而且由于光刻精度是几纳米,euv对光的集中度要求极高,相当于拿个手电照到月球光斑不超过一枚硬币。反射要求镜子长30cm且镜面的起伏不到0.3纳米,这相当于是燕京到沪上做根铁轨起伏不超过1毫米。

    所以euv不仅是顶级科学的研究,也是顶级精密制造的学问。

    一台euv光刻机重达180吨,其中超过了10万个零件,需要四十个集装箱运输,安装调试都要超过一年时间,可以说真的是没有一定的技术储备,设计图纸给你你都造不出来。

    其实euvllc联盟早在1997年便已经成立,在97年到03年的六年间,euvllc的科学家发表了几百篇论文,验证了euv光刻机的可行性,然后euvllc联盟解散。

    虽然说是解散但是实际上不过是移交到了阿斯麦手里,阿斯麦几乎是全部继承了euvllc联盟关于euv光刻机方面的知识,而现在英特尔重新号召不过是为了加大投入想要抢先一步研制出来,毕竟以前没有对手完全可以慢慢来,但是现在有了对手出现,在慢慢发展显然不可行了,就像当初美苏冷战的军事竞赛一样,科技简直是迅猛发展航天就是在当时的背景下迅速进步的。

    而就在eucllc讨论如何解决光源问题得到时候,华夏突然宣布,将kbff晶体列为战略资源,不再对外出口。

    asml:......

    英特尔:......

    APC:......

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